

가스 유량이 올라가지 않을 때의 해결사: Cv 값
가스 제어 시스템을 설계하거나 운영하다 보면, 이론과 실제 현장이 부딪히는 순간들을 마주하게 됩니다. 특히 유량을 높이면서 동시에 높은 압력을 유지해야 하는 극한의 환경에서는 다양한 문제가 발생하게 되죠. 유량계를 바꿔보고, 레귤레이터를 조정해 보고, 공급 압력도 올려봅니다. 그래도 해결이 안 될 때, 한 가지 꼭 확인해 봐야 할 수치가 있습니다. 바로 Cv 값입니다. Cv 값이란? Cv 값(Valve Flow Coefficient)은 "밸브/배관이 유체를 얼마나 잘 통과시키는가"를 나타내는 숫자입니다. 정확하게는 1 psi의 압력 차이에서 60°F의 물이 1분에 1갤런 흐를 수 있을 때, 그 밸브의 Cv를 1이라고 정의합니다. 이 숫자가 클수록 유체가 저항 없이 잘 흐르고, 작을수록 병목이 일어납니다. 도로의 차선 수로 예를 들어보겠습니다. Cv가 큰 밸브 = 8차선 고속도로. 차(가스)가 막힘없이 콸콸 지나감 Cv가 작은 밸브 = 1차선


진공 센서 선택; 어떤 게이지를 선택해야할까?
진공 장비나 연구용 챔버를 설계할 때, 엔지니어들이 가장 깊게 고민하는 부품 중 하나는 '진공 센서’입니다. 측정하려는 압력 대역, 사용 가스의 종류, 예산, 그리고 유지보수 환경까지 고려해야 할 변수가 너무 많기 때문입니다. 다양한 진공 범위 오늘은 다양한 진공 센서 타입에 대해서 알아보고, 각자 장비에 딱 맞는 합리적인 센서를 선택하는 방법을 알아보겠습니다. 1. 가장 정확한 센서, 캐패시턴스 마노메터 (Capacitance Manometer) 진공도를 측정할 때 가장 정확한 센서 를 꼽으라면 단연 캐패시턴스 압력계(Capacitance Manometer, CDG)입니다. 장점: 이 센서는 기체의 열전도도가 아닌 막이 휘어지는 물리적 힘(정전 용량)을 측정합니다. 따라서 측정 챔버 내의 가스 종류나 조성비가 바뀌어도 전혀 영향을 받지 않고 아주 정밀한 측정 이 가능합니다. 단점: 하지만 현장에서 이를 메인으로 쓰기에는 몇 가지 큰 장벽이


진공 챔버의 복잡한 배선을 간소화하는 방법: HVG-PR
진공 장비나 대형 다중 챔버 시스템을 설계할 때, 엔지니어와 조립 라인 작업자들을 가장 피곤하게 만드는 작업 중 하나는 바로 '배선'입니다. 장비 곳곳에 부착된 진공 게이지의 개수만큼 두껍고 뻣뻣한 전용 쉴드 케이블이 늘어나며, 이는 곧 장비 조립 횟수 증가와 케이블 트레이 공간 부족 현상으로 이어집니다. 오늘은 Teledyne Hastings의 신형 피라니 진공 게이지인 HVG-PR 을 통해, 기존 진공 장비의 복잡한 배선 문제를 가장 현실적이고 저렴하게 해결하는 방법을 소개합니다. HVG-PR RJ45 커넥터를 이용한 실용성 일반적인 진공 게이지들은 핀 맵이 복잡하고 가격이 비싼 커넥터를 주로 사용합니다. 이러한 전용 커넥터들은 납땜이나 특수 작업이 필요할 때도 있고, 장비 크기에 맞춰 케이블 길이를 정확하게 주문해야 하는 번거로움이 있습니다. 현장에서 길이가 짧거나 단선이라도 발생하면 대체품을 구하기 전까지 작업이 올스톱되기도 합니다.


진공 게이지 교체 시, 코드 수정 없이 바로 대체하는 방법 (HVG-PR)
진공 장비의 유지보수를 담당하거나 새로운 장비를 설계하는 과정에서, 부품 수급 문제나 원가 절감을 이유로 진공 게이지를 교체해야 하는 상황이 종종 발생합니다. 이때 특히 ‘소프트웨어 재설정’ 문제 때문에 곤란한 경우가 있습니다. 오늘은 기존 장비의 시스템 코드를 수정하지 않고, 진공 게이지를 안전하고 손쉽게 대체할 수 있는 방법에 대해 알아보겠습니다. 부품 하나를 바꾸면 시작되는 소프트웨어 설정과의 싸움 일반적인 피라니 진공 게이지는 제조사마다 고유의 아날로그 출력 값을 가지고 있습니다. 예를 들어, A사 제품은 진공도에 따라 1.286 V/decade로 전압을 출력하고, B사 제품은 1.0 V/decade로 출력하는 식입니다. 만약 기존 장비에 장착된 게이지를 다른 전압을 출력하는 타사 제품으로 바꾼다면 어떤 일이 일어날까요? 변경된 전압 값에 맞춰 아날로그 입력 수식부터 특정 진공도에서 밸브를 열고 닫는 조건까지 처음부터 다시 계산하고


가스 종류에 상관없는 정밀 측정: HVG-2020A
합리적인 비용으로 가스 조성에 영향을 받지 않고 압력을 측정할 수 있는 HVG-2020A에 대해 알아보겠습니다.


비파괴 검사(NDT)란 무엇인가?
오늘은 우리 생활 곳곳의 안전을 책임지는 핵심 기술 비파괴 검사(NDT)에 대해 알아보겠습니다.


반도체 제조 공정에서 사용되는 플라즈마(Plasma)
우리는 지난 시간에는 반도체 제조 공정 중, MFC가 사용되는 박막 증착(Thin Film deposition)과정과 식각(Etching)과정 에 대해 알아보았습니다. 반도체 제조 과정 중 MFC가 사용되는 박막 증착 과정(Thin Film...


반도체 제조 과정 중 Mass Flow Controller가 사용되는 식각(Etching)과정과 건식 식각(Dry Etching)
가스와 같은 기체의 유량을 측정하고 제어하는데 사용되는 질량 유량계(Mass Flow Meter / Controller - MFM / MFC)는 다양한 어플리케이션에서 사용되고 있습니다. 지난 시간에는 반도체 제조 공정 중, MFC가 사용되는...


반도체 제조 과정 중 Mass Flow Controller가 사용되는 박막 증착 과정(Thin Film Deposition)과 화학적 증착 방법(CVD)
질량 유량계, 질량 유량 제어기 라고 불리는 Mass Flow Meter / Mass Flow Controller 장비는 가스와 같은 기체의 유량을 측정하고 제어하는데 사용됩니다. 특히 기체의 유량을 제어할 수 있는 MFC는 기체를 지정한 유량만...


다이어프램 밸브(Diaphragm Valve)에 대해 알아보자.
밸브는 많은 산업 분야와 제조, 과학, 엔지니어링 등의 분야에서 다양하게 사용됩니다. 특히 대부분의 산업에서 밸브는 매우 큰 역할을 합니다. 밸브의 목적은 흐름을 제어하는 것으로, 그 대상은 액체와 기체, 심지어 고체까지도 포함됩니다. 밸브는...

